
Baza pod makijaż o działaniu pielęgnacyjnym. Wygładza skórę, widocznie wyrównuje jej koloryt. Dzięki zielonym pigmentom natychmiastowo zmniejsza zaczerwienienia. Działa obkurczająco na naczynka krwionośne, zapewniając długotrwały efekt pielęgnacyjny.
Skin de-stress complex - uszczelnia warstwę ochronną skóry, zabezpieczając ją przed podrażnieniami, wynikającymi ze stosowania makijażu.
Ekstrakt z Centella asiatica uelastycznia ścianki naczyń krwionośnych, a kompleks Anti-Redness obkurcza je i uszczelnia, niwelując zaczerwienienia skóry i łagodząc podrażnienia.
Zestaw składników aktywnie nawilżających chroni skórę przed przesuszeniem, pozostawiając ją aksamitnie miękką i gładką.
Testowana dermatologicznie
Aqua, Cyclopentasiloxane, Glycerin, Ethylhexyl Triazone, Pentylene Glycol, Isohexadecane, Glyceryl Stearate, Butyl Methoxydibenzoylmethane, PEG-100 Stearate, Octocrylene, Dicaprylyl Carbonate, Dibutyl Adipate, Hydrogenated Polydecene, Cetearyl Alcohol, Porphyridium Cruentum Culture Conditioned Media, Myristyl Myristate, Butyrospermum Parkii Butter, Adansonia Digitata Seed Oil, Oenothera Biennis Oil, Perilla Ocymoides Seed Oil, Tocopheryl Acetate, Palm Kernel Glycerides, Squalane, Behenyl Alcohol, Palmitic Acid, Stearic Acid, Lecithin, Panthenol, Cetyl Alcohol, Lauryl Alcohol, Myristyl Alcohol, Ceramide NP, Rosa Centifolia Extract, Centella Asiatica Leaf Extract, Jasminum Officinale Extract, Bellis Perennis Extract, Allantoin, Ornithine HCL, Carnosine, Glycine, Histidine, Lysine, Calcium Gluconate, Magnesium Gluconate, Cupric Chloride, Manganese Chloride, Tocopherol, Triethanolamine, Magnesium Aluminum Silicate, Phenoxyethanol, Ethylhexylglycerin, Citric Acid, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Xanthan Gum, Butylene Glycol, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, CI 77891, CI 42090, CI 19140, Silica
Otrzymuj powiadomienia, gdy cena tego produktu ulegnie zmianie.
Twój adres został dodany. Dziękujemy!
Nikt jeszcze nie ocenił tego produktu. Zrób to jako pierwszy!
© 2012-2025 Saving Cloud Sp. z o.o. Wszelkie prawa zastrzeżone. Made in Warsaw. Korzystanie z serwisu oznacza akceptację regulaminu.
Właścicielem platformy Kwit.pl jest Saving Cloud Sp. z o.o. z siedzibą w Warszawie, ul. Wiertnicza 89, NIP: 521-362-83-05, REGON: 146035181. Saving Cloud dokłada wszelkich starań, aby ceny produktów prezentowane w serwisie odpowiadały aktualnym cenom produktów w poszczególnych sklepach. Za różnice w aktualnych cenach Saving Cloud nie ponosi odpowiedzialności.
Strona korzysta z plików cookies w celu realizacji usług i zgodnie z Polityką Plików Cookies. Możesz określić warunki przechowywania lub dostępu do plików cookies w Twojej przeglądarce.
Projekt współfinansowany ze środków Europejskiego Funduszu Rozwoju Regionalnego w ramach Programu Operacyjnego Innowacyjna Gospodarka.
Dotacje na innowacje. Inwestujemy w Waszą przyszłość.